AI サーバーやハイエンド チラーなどの高精度の温度制御シナリオでは、 流量の安定性が温度制御の精度に直接影響します。の普及に伴い マイクロチャネル液体冷却技術、従来のポンプに固有の流量変動の問題がハイエンド液体冷却システムの主要なボトルネックになっています。
マイクロチャネル液体冷却は、今日の高出力 AI チップの主流の熱管理ソリューションです。その 流路の直径はわずか 0.01 ～ 1 mm で、単位体積あたりの熱交換表面積は従来の熱交換器の 10 ～ 100 倍、シングルノードの放熱能力は 1,500 W を超えており、高 TDP AI GPU の冷却需要に最適です。
この構造は、移送ポンプにまったく新しい要件をもたらします。
✅ 低流量、高圧: 流路が非常に小さいため、流れ抵抗が大幅に増加します。システムの要求圧力は従来の 1 bar から 3 ～ 6 bar、またはそれ以上に増加しますが、必要な流量は比較的低いままであり、これは典型的な低流量、高圧の動作条件です。
✅ 絶対的に安定した流れ: ハイエンドチラーと AI 液体冷却システムは非常に厳密な温度制御を必要とし、多くのアプリケーションでは ±0.5°C 以内の温度変動が要求されます。これは、ポンプ流量が完全に安定している必要があり、システム圧力の変動によって変化してはいけないことを意味します。
従来の遠心ポンプには、このような高精度のシナリオにおいて固有の制限があります。つまり、出口圧力の変化に応じて流量が急激に変動します。
Suofu は以下を示す比較テストを実施しました。
出口システム圧力にわずか 0.5 bar の変動がある場合、ポンプ速度が一定であっても、従来の遠心ポンプの流量は最大 0.45 m³/h 変動します。
対照的に、 Suofu マイクロ磁気ギア ポンプは、 4 bar の出口圧力変動下でも流量変動を 0.06 m³/h 未満に維持します。これは 7.5 倍の性能ギャップです。
遠心ポンプ性能曲線（1Cst） |
Suofu NP1200 パフォーマンスカーブ (1Cst) |
|
|
この意味は明らかです。従来の遠心ポンプでは、わずかなシステム圧力変動でも大きな流量変動が発生し、安定性を維持するために高精度の調整バルブが必要になります。しかし、 Suofu NP シリーズ ギア ポンプは、システム圧力振動下でもほぼゼロに近い流量変動を実現し、本質的により高い温度制御精度を可能にします。
遠心ポンプは、同等の流量のギア ポンプよりも初期費用が低くなりますが、必要な流量調整バルブを追加すると、システムの総コストがギア ポンプ ソリューションのコストを上回ることがよくあります。
ギアポンプの容積式構造により、本質的に安定した流れが得られます。 Suofu NP シリーズは、次の基盤に基づいて加工精度をさらに最適化します。
圧力に依存しない流量: 容積式設計により、流量は回転速度のみに相関し、出口圧力の影響をほとんど受けず、圧力変動による流量の変動が排除されます。
超高制御精度：NPシリーズは流量制御精度±0.1%を実現し、ハイエンドチラーや高精度温度制御システムの要求を十分に満たします。
低流量、高圧条件向けに最適化: NP シリーズは、低流量、高圧のデューティ ポイントにネイティブに適しており、マイクロチャネル液体冷却システムの圧力要件に完全に一致し、3 ～ 6 bar 以上のシステム圧力を容易に処理します。
現在、NP シリーズはすでに、 MLCP マイクロチャネル液冷システムや ポンプ駆動の二相液浸液冷システム (フルシステム液浸) など、幅広いハイエンド液冷システムに導入されており、これらの高精度マイクロポンプによって安定した流量の供給が保証されています。
✅ ハイエンド精密チラー用の高精度温度制御システム
✅ AIサーバーマイクロチャネル液体冷却用の冷媒循環
✅ 分散コンピューティングセンター向けの高密度冷却システム
✅ 半導体製造装置用の精密温度制御システム
✅ 宇宙ベースのコンピューティングセンター用の液体冷却システム
✅ 超高速EV充電器用ガンケーブル液冷システム
✅ 相変化液体冷却システム
✅ 液体金属冷却システム
高精度の液冷要件に対応するため、Suofu は 100 W DC モーターと組み合わせた NP100、100 , W キャンドモーターと組み合わせた NP190 、および 300 W キャンドモーターと組み合わせた NP350を提供します。これらのモデルは、高精度の温度制御とマイクロチャネル液体冷却用に特別に設計されており、正確な流量調整をサポートし、システムの温度制御精度を保証します。
